如何制备全瓷高嵌体？

嵌体边缘设定在牙冠中央处

对已经处理过（CR)的牙齿和健全牙的情况分开考量。

嵌体不适合的如较大的Ⅱ类窝洞缺损这样病例，可以采用高全瓷高嵌体来修复。但随着粘结技术的发展，以前只能用全冠修复的病例，现在也可用高嵌体进行修复，牙本质也能得到很好的保存。但是，由于陶瓷的抗压强度没金属高，所以设计洞型时注意不要让应力都集中到牙本质和瓷修复体上。

在制备全瓷高嵌体时，如果已经进行CR嵌体修复的话牙齿，容易发生继发龋，如果是没进行过任何处理的健全牙的话，则不容易发生继发龋。因此，由于洞型设计受先行处理形态的影响，所以要将其与健全牙的制备分开来设计。

高嵌体的边缘原则上是设计在牙冠中央处上方。因为这里的牙本质会比牙颈部的牙本质厚，另外就是这里没受污染（因为菌斑附着导致脱矿）的健全牙本质多。因此高嵌体就该选择粘贴在这种品质高的牙本质上。

高嵌体边缘形态是四周呈圆滑连续的移行，并能覆盖牙本质小柱。嵌体厚度要有1.5mm以上（图1）。制备成无角圆滑的形态，让应力不要集中。

如果是制备健全牙，尽可能保存住牙本质，形态做成圆滑的凸型。